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http://dspace.uan.mx:8080/jspui/handle/123456789/1084
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Campo DC | Valor | Lengua/Idioma |
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dc.contributor.author | RODRIGUEZ LAZCANO, YAMILET | |
dc.contributor.author | MESSINA FERNANDEZ, SARAH RUTH | |
dc.contributor.author | CAMPOS, JOSE | |
dc.contributor.author | PEN, Y. | |
dc.contributor.author | BARRIOS SALGADO, ENUE | |
dc.date.accessioned | 2018-10-03T17:57:08Z | |
dc.date.available | 2018-10-03T17:57:08Z | |
dc.date.issued | 2016-10-19 | |
dc.identifier.issn | 0957-4522 | es_ES |
dc.identifier.uri | http://dspace.uan.mx:8080/jspui/handle/123456789/1084 | |
dc.description | AgIn5 (S/Se) 8 thin films were prepared by sequential chemical deposition of In2S3–Ag2Se stack films and post-deposition thermal annealing in N2 atmosphere. The formations of AgIn5S8−xSex alloy was achievable through the post-deposition treatment at 350 and 400 °C. X-ray diffraction and energy dispersive X-ray analyses were performed on the samples. The direct optical band gap value E g for the films was found to be as the order of 1.75 eV at room temperature. The photo-response measurements exhibited that AgIn5(S/Se)8 thin films are photoconductive and p-type electrical conductivity of 6.6 × 10−6 (Ω cm)−1 and thermoelectric power of +18 µV/K. | es_ES |
dc.description.abstract | Las películas delgadas de AgIn5 (S / Se) 8 se prepararon mediante deposición química secuencial de películas apiladas In2S3-Ag2Se y recocido térmico posterior a la deposición en atmósfera de N2. Las formaciones de aleación AgIn5S8 − xSex fueron alcanzables a través del tratamiento posterior a la deposición a 350 y 400 ° C. Se realizaron análisis de rayos X por difracción de rayos X y dispersión de energía en las muestras. Se encontró que el valor del intervalo de banda óptica directa E g para las películas era del orden de 1,75 eV a temperatura ambiente. Las medidas de respuesta fotográfica mostraron que las películas delgadas de AgIn5 (S / Se) 8 son fotoconductoras y conductividad eléctrica de tipo p de 6,6 × 10−6 (Ω cm) −1 y potencia termoeléctrica de +18 µV / K. | es_ES |
dc.language.iso | eng | es_ES |
dc.publisher | Journal of Materials Science: Materials in Electronics | es_ES |
dc.relation.uri | Público en general | es_ES |
dc.rights | info:eu-repo/semantics/openAccess | es_ES |
dc.rights.uri | http://creativecommons.org/licenses/cc0 | es_ES |
dc.source | https://link.springer.com/article/10.1007%2Fs10854-016-5730-8 | es_ES |
dc.subject | Spark Plasma Sinter | es_ES |
dc.subject | Sinter de plasma de chispa | es_ES |
dc.subject | Seebeck Coefficient | es_ES |
dc.subject | Coeficiente de Seebeck | es_ES |
dc.subject | Optical Absorption Coefficient | es_ES |
dc.subject | Coeficiente de absorción óptica | es_ES |
dc.subject | Chemical Bath Deposition | es_ES |
dc.subject | Deposición química en el baño | es_ES |
dc.subject | Ag2Se | es_ES |
dc.subject.classification | BIOLOGÍA Y QUÍMICA [2] | es_ES |
dc.title | THIN FILMS OF AGIN5 (S/SE) 8 PREPARED IN A TWO STAGE PROCESS | es_ES |
dc.type | info:eu-repo/semantics/article | es_ES |
Aparece en las colecciones: | Artículos científicos |
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Fichero | Descripción | Tamaño | Formato | |
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Messina2017_Article_ThinFilmsOfAgIn5SSe8PreparedIn.pdf | 446.99 kB | Adobe PDF | Visualizar/Abrir |
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